Hybrid Bonding 中的 Hybrid 是指除了在室溫下凹陷下去的銅 bump 完成鍵合,兩個(gè) Chip 面對面的其它非導電部分也要貼合。因此,Hybrid Bonding 在芯粒與芯粒或者 wafer 與 wafer 之間是沒(méi)有空隙的,不需要用環(huán)氧樹(shù)脂進(jìn)行填充。
援引媒體報道,三星電子和 SK 海力士等主要公司已經(jīng)克服這些挑戰,擴展了 TCB 和 MR 工藝,實(shí)現最高 12 層。
報道稱(chēng)采用 Hybrid Bonding 工藝之后,顯著(zhù)提高了輸入 / 輸出(IO)吞吐量,允許在 1 平方毫米的面積內連接 1 萬(wàn)到 10 萬(wàn)個(gè)通孔(via)。