據(jù)報道，臺灣美光董事長盧東暉表示，美光有多達 65% 的 DRAM 產品在臺灣生產，其中臺日團隊一起研發(fā)新一代的 1-gamma 制程將于 2025 年上半年先在臺中廠量產，這是美光第 1 代采用極紫外光(EUV)的制程技術。

　　據(jù)悉，美光現(xiàn)在只有在臺中有 EUV 的制造工廠，1-gamma 制程勢必會先在臺中廠量產，日本廠未來也會導入 EUV 設備。

　　盧東暉強調，臺灣和日本是美光非常重要的制造中心，美光有多達 65% 的動態(tài)隨機存取記憶體(DRAM)產品在臺灣生產;繼日本廠去年 10 月開始量產 1-beta 制程技術后，臺灣現(xiàn)在也開始量產 1-beta 制程。

　　從報道中獲悉，相較上一代的 1-alpha 制程，美光最新的 1-beta 制程功耗降低約 15%，位元密度提升超過 35%，每顆晶粒容量可達 16Gb。